С тех пор, как в один прекрасный день компания Intel вынуждена была признать, что действие «закона Мура» замедлилось, на каждом отраслевом мероприятии ей приходится давать сопутствующие пояснения и регулярно подтверждать свои же прогнозы. Прошедшая недавно квартальная отчётная конференция не стала исключением, Intel тоже пришлось искать поводы для оптимизма в том, что удвоение плотности размещения транзисторов на единице площади микросхем теперь происходит один раз в два с половиной года, а не раз в два года, как раньше.

Руководство Intel подтверждает, что в случае с 10-нм техпроцессом длительность цикла будет ближе к двум с половиной годам, а не к двум годам ровно. С одной стороны, компания не собирается успокаиваться, и готова предпринимать все усилия для возврата к двухгодичному шагу. По темпам освоения 7-нм техпроцесса прогнозы ещё делать рано. Всё будет зависеть от возможности адаптации существующего литографического оборудования под новые технологические нормы, от наличия или отсутствия необходимости переходить на так называемую литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением.

С другой стороны, из уст финансового директора Intel звучат призывы к использованию преимуществ замедления действия «закона Мура». Увеличение длительности цикла можно использовать для повторного использования литографического оборудования и оснастки, что даст ощутимую экономию, да и в целом отсутствие спешки позволяет экономить средства. Каждый год Intel проводит соответствующий анализ и принимает важные решения на этом направлении. Возвращать «закон Мура» в прежнее русло слишком высокой ценой компания не готова, но при наличии благоприятных условий обещает сделать это.